CVD管式炉是一款专业在沉底材料上生长高质量石墨烯、碳纳米管、碳化硅的专用设备，广泛应用于在半导体、纳米材料、碳纤维、碳化硅、镀膜等新材料新工艺领域。
1、设计升降温曲线，升温速率不得高于10℃/分钟，降温速率应低于15℃/分钟。
2、清扫环境。
3、每周开始使用时，检查机械泵油线处于标线以上，拆除两端盖，用吸尘器清洁刚玉炉管。
4、将样品舟推入刚与管炉膛中部（恒温长度10cm）。
5、塞上两块隔热炉塞，使第二个炉塞的末端与炉体侧面平齐。
6、装上气炉法兰，确认密封垫落入槽中。
郑州科佳电炉有限公司
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发布时间：2026/3/124
CVD管式炉是一款专业在沉底材料上生长高质量石墨烯、碳纳米管、碳化硅的专用设备，广泛应用于在半导体、纳米材料、碳纤维、碳化硅、镀膜等新材料新工艺领域。
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